潔凈廠房中化學(xué)品儲(chǔ)存間如何布置
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在潔凈廠房?jī)?nèi)根據(jù)產(chǎn)品生產(chǎn)工藝需要和化學(xué)品物化性質(zhì)分別設(shè)置不同類型的化學(xué)品儲(chǔ)存、分配間,以輸送管道向所需化學(xué)品的生產(chǎn)設(shè)備供應(yīng)相應(yīng)的化學(xué)品。潔凈廠房?jī)?nèi)的化學(xué)品儲(chǔ)存、分配間通常設(shè)在生產(chǎn)支持區(qū)(輔助生產(chǎn)區(qū)),一般設(shè)在靠外墻的單層或多層的底層房間。各類化學(xué)品應(yīng)按其物化特性分類儲(chǔ)存,不相容的化學(xué)品應(yīng)布置在不同的化學(xué)品儲(chǔ)存、分配間內(nèi),房間之間應(yīng)以實(shí)體隔墻進(jìn)行分隔;危險(xiǎn)性化學(xué)品應(yīng)儲(chǔ)存在單獨(dú)的儲(chǔ)存間或儲(chǔ)存分配間內(nèi),與相鄰房間的隔墻耐火極限不應(yīng)小于2.0h,并應(yīng)布置在生產(chǎn)廠房一層靠外墻的房間內(nèi)。
在電子工廠潔凈廠房?jī)?nèi)通常設(shè)有酸類和堿類化學(xué)品儲(chǔ)存分配間、可燃溶劑類化學(xué)品儲(chǔ)存間。在酸類儲(chǔ)存分配間內(nèi)一般設(shè)置硫酸、磷酸、氫氟酸、鹽酸等儲(chǔ)存、分配系統(tǒng),在堿類儲(chǔ)存分配間內(nèi)一般設(shè)置氫氧化鈉、氫氧化餅、氫氧化胺、氫氧化四甲基胺等儲(chǔ)存、分配系統(tǒng);可燃溶劑的儲(chǔ)存分配間內(nèi)一般設(shè)有異丙醇 (IPA)等有機(jī)溶劑的儲(chǔ)存分配系統(tǒng)。在集成電路晶圓制造工廠潔凈廠房?jī)?nèi)還設(shè)有研磨液儲(chǔ)存分配間。在集成電路晶圓、平板顯示器件制造潔凈廠房中,通常是將化學(xué)品儲(chǔ)存分配間布置在靠近潔凈生產(chǎn)區(qū)或貼鄰在潔凈生產(chǎn)區(qū)一側(cè)的輔助生產(chǎn)區(qū)或支持區(qū),一般是設(shè)置在一層并能直接通往室外的布置。
化學(xué)品儲(chǔ)存分配間內(nèi)根據(jù)產(chǎn)品生產(chǎn)所需的化學(xué)品種類、數(shù)量和使用特性設(shè)有不同容量的儲(chǔ)存用桶槽或儲(chǔ)罐。按標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范的規(guī)定,化學(xué)品應(yīng)分類分別儲(chǔ)存,所采用的桶槽或儲(chǔ)罐的容量應(yīng)為此類化學(xué)品7天的消耗量;并應(yīng)設(shè)置日用桶槽或儲(chǔ)罐,日用桶槽的容量應(yīng)為產(chǎn)品生產(chǎn)所需化學(xué)品 24h的消耗量,可燃溶劑化學(xué)品、氧化性化學(xué)品的儲(chǔ)存分配間應(yīng)分別設(shè)置,并與相鄰房間之間設(shè)置耐火極限為3.0h 的實(shí)體防火隔墻分隔,若布置在多層建筑的一層時(shí),應(yīng)以耐火極限不小于 1.5h 的不燃燒體樓板與其他部分分隔;潔凈廠房?jī)?nèi)的化學(xué)品安全及監(jiān)探系統(tǒng)集中控制室應(yīng)設(shè)置在單獨(dú)的房間內(nèi)。
潔凈廠房?jī)?nèi)化學(xué)品儲(chǔ)存分配間的高度應(yīng)根據(jù)設(shè)備和管道布置的要求確定,一般不宜低手4.5m;若布置在潔凈廠房輔助生產(chǎn)(支持區(qū))部分內(nèi)時(shí),化學(xué)品儲(chǔ)存分配間的高度宜與所在部分的廠房高度一致。